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纳米抛光粉REP-110
1. 采用混合稀土产品作为原料,经氟化焙烧制成的白色或红色抛光粉,可用于集成电路、半导体硅片、硬盘基片、光学玻璃等抛光。
2. 平均粒度0.1微米。
3. 高分散、窄跨距、纳米级稀土抛光粉。
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